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半导体氦检漏设备有哪些性能指标?

2023.10.13

半导体氦检漏设备在现代工业生产中广泛应用,代表了科技水准,以及人们对产品品质的要求的提高,比如消防器材的检漏,早在国内采用的是浸水法,将灭火器放在水中,如果没有气泡冒出,就认为是合格的,此种方法完全靠人的观察,并且当遇到微小泄露时,根本无法察觉,很可能在以后的使用中遇到问题,甚至可能危及生命,使用氦质谱检漏仪 则大大降低了泄露风险,即使对微小的泄露也会侦测到,并且加快了生产效率。


半导体氦检漏设备是180°磁偏转型的质谱分析计,其基本原理是根据离子在磁场中运动时,不同质荷比的离子具有不同的偏转半径来实现不同种类离子的分离。检漏仪主要由质谱室、真空系统及电气控制部分组成。检漏工作时先打开抽空阀前级泵对检漏接口抽真空,当真空度P1 优于200 Pa 时,打开入口阀1、2,关闭抽空阀,氦气将逆着分子泵的抽气方向进入质谱室中被检测出来,此时检漏仪的较小可检漏率为10- 10 Pa·m3/s。前级泵继续对检漏接口抽真空,当P1降至20 Pa 时,入口阀2 关闭,入口阀3 打开,分子泵的高抽速用于抽空试件,检漏仪的反应时间缩短,此时检漏仪的较小可检漏率为10- 12 Pa·m3/s。